用于离子束加工的OMF设备的技术特点
- 可实现λ/ 200或更好的表面质(根据测量系统)
- λ@633纳米的开始精度是符合标准的
- 每台机器都配置有一个六轴直接驱动系统,因此能够使离子源对工件表面始终处在正交位置
- 可被加工的工件外形有:扁平的、球型的、非球面的、自由曲面的、偏轴非球面、圆柱体、类棱镜形状或锥透镜,或可按需定制
- 所有加工所需要的动作(如:波形的,螺旋形的,自由形式的,等等)都可以在不更改机器配置的情况下进行
- 原则上可加工所有单晶,非晶和金属材料。例如:各种光学玻璃、石英玻璃、微晶玻璃、超低膨胀玻璃(ULE)、KDP晶体、蓝宝石、硅、碳化硅、锗等
- 绝对稳定的工程具有极端的可再现性
- 每台机器都拥有一个主室和一个负载锁定室,以减少工件更换用时间
- 针对不同离子束直径的自动原位换膜器,0.5到20毫米(可选)
- 全自动化加工流程,迭代作业流,无需在不同孔口直径的加工过程中测量工件,为实现几个不同工件的全自动加工,加工过程可通过机器人和储料分类系统进行扩展(可选)
- 实时测量系统可在几秒内确定离子束的蚀刻速率,而无需使用单独的工件样品(可选)
- 运行成本低,维护成本低
在这段视频里可以看到在一个模拟中,离子束源在一个自由形状样品上的运动
这里列举的是迄今为止制造的用于离子束加工的OMF设备的各种类型 (也包括离子束蚀刻或离子束抛光)。我们很乐意按照您的设想制造其他尺寸和规格的设备。您只需向我们描述您工艺技术上的打算。我们会将设备调整到适合您的生产流程的最佳状态。
OMF 200 | OMF 450 | OMF 600 | OMF 800 | OMF 1200 | |
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直接驱动轴 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 |
最大扁平样品直径 | 200 mm | 450 mm | 600 mm | 800 mm | 1200 mm |
非扁平样品直径 | 取决于曲率半径;一个附加的第七轴可扩大样品直径2 | ||||
最大厚度 | 200 mm | 200 mm | 200 mm | 200 mm | 200 mm |
最大重量 | 35 kg | 35 kg | 100 kg | 100 kg | 200 kg |
2作为选装配置提供
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